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解析鎂合金壓鑄鍍件實(shí)用工藝

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2013-06-27
核心提示: 鎂合金具有許多優(yōu)異性能如密度小,比強(qiáng)度高,鑄造性,切削性,導(dǎo)電性,導(dǎo)熱性,電屏蔽性好等獨(dú)特性能和豐富的資源,在本世紀(jì)被譽(yù)為綠色環(huán)保材

     鎂合金具有許多優(yōu)異性能如密度小,比強(qiáng)度高,鑄造性,切削性,導(dǎo)電性,導(dǎo)熱性,電屏蔽性好等獨(dú)特性能和豐富的資源,在本世紀(jì)被譽(yù)為綠色環(huán)保材料,而倍受推崇。已得到電子、通訊、航天航空軍工、汽車工業(yè)部門的廣泛關(guān)注和應(yīng)用。但由于鎂合金的電極電位較負(fù),耐蝕性差,在潮濕的空氣,含硫氣氛和海洋性大氣中均會(huì)遭受嚴(yán)重的電化學(xué)腐蝕,因此必須對鎂合金采取表面處理防護(hù)措施,改變其表面狀態(tài),以提高其耐蝕性、耐磨性、可焊性、裝飾性等性能。

    鎂合金的表面處理防護(hù)技術(shù)和方法與鋁合金有許多相似之處,目前工業(yè)生產(chǎn)上使用的表面處理工藝技術(shù)大致有如下四個(gè)方面或者相互結(jié)合。

    一、化學(xué)轉(zhuǎn)化膜技術(shù)(鉻酸鹽或無鉻轉(zhuǎn)化膜法)

    二、有機(jī)高聚合物涂裝技術(shù)(靜電噴粉或噴漆,電泳漆)

    三、陽極氧化處理技術(shù)(普通陽極氧化、微孤氧化、抑孤氧化)

    四、電鍍和化學(xué)鍍

    鎂合金電鍍和化學(xué)鍍的難點(diǎn)

    一、鎂的標(biāo)準(zhǔn)電極電位很低(-2.36V),比鋁的電位還要負(fù)。鎂合金的化學(xué)活性非常高與鍍液中金屬離子接觸后會(huì)產(chǎn)生激烈的置換反應(yīng),置換物是疏松、粗糙的,嚴(yán)重影響鍍層與基體結(jié)合力。

    二、不同類型的鎂合金由于組成元素及表面狀態(tài)不同,存在大量金屬間化合物,導(dǎo)致基體表面的電位分布不均勻,而影響鍍層的均勻性。

    三、鎂合金鑄件表面往往存在氣孔、洞隙、裂紋、疏松、偏析等現(xiàn)象而影響鍍層結(jié)合力。

    四、鎂合金上電鍍或化學(xué)鍍各種金屬鍍層均為陰極性鍍層,要有效防止鎂合金腐蝕,鍍層必須是無孔隙的,否則鎂合金與鍍層間形成腐蝕電池,不但不能有效的防止基體腐蝕,反而會(huì)加劇它的腐蝕。

    化學(xué)鍍鎳是鎂合金防護(hù)工藝技術(shù)中最有效的方法之一,能提高耐蝕性、耐磨性等性能,可以作為底鍍層、中間層或面層,鍍層均勻致密,鎂合金化學(xué)鍍鎳在電子工業(yè)中應(yīng)用較多,如計(jì)算機(jī)、手機(jī)、筆記本電腦,數(shù)碼相機(jī)的鎂合金零部件。

    鎂合金壓鑄件化學(xué)鍍鎳工藝主要有浸鋅后化學(xué)鍍鎳和直接化學(xué)鍍鎳兩種方法。浸鋅后化學(xué)鍍鎳所得的鍍層比直接化學(xué)鍍鎳具有更好的結(jié)合力和致密性。

    傳統(tǒng)的鎂合金浸鋅工藝采用氰化鍍銅打底,對環(huán)境危害極大,而且不適于處理含鋁質(zhì)量分?jǐn)?shù)較高的鎂合金如AZ91D。

    2.鎂合金壓鑄件化學(xué)鍍鎳工藝

    鎂合金壓鑄件進(jìn)行表面處理前要檢查鑄件基體本身應(yīng)具有良好的品質(zhì)才能取得良好的處理效果。

    如鑄件是否有縮孔、針孔、疏松、偏析等缺陷,否則將會(huì)直接影響鍍層質(zhì)量。

    鎂合金壓鑄件化學(xué)鍍鎳工藝主要有二種技術(shù)路線

    第一種是堿性除油→酸性浸蝕→氟離子活化→直接化學(xué)鍍鎳

    第二種是堿性除油→酸性浸蝕→活化→浸鋅(或二次浸鋅→化學(xué)鍍鎳

    2.1鎂合金壓鑄件直接化學(xué)鍍鎳工藝

    例一

    工藝流程:堿性除油→酸性浸蝕活化一步法→直接化學(xué)鍍鎳(各工序間水洗)

    堿性除油處理:氫氧化鈉(NaOH)20g/L磷酸三鈉(Na3PO4)30g/L

    碳酸鈉(Na2CO3)40g/LOP-10表面活性劑1g/L

    溫度70-80℃時(shí)間5-7min

    浸蝕活化一步法處理:

    85%磷酸(H3PO4)15ml/L氟化氫銨(NH4HF2)40g/L

    硼酸(H3BO3)30g/L

    溫度室溫時(shí)間25S

    浸蝕時(shí)間太長基體嚴(yán)重刻蝕,表面較粗糙,得到鍍層亦粗糙。

    浸蝕時(shí)間太短,不能有效去除氧化膜,可能導(dǎo)致部分漏鍍,結(jié)合力差。

    浸蝕時(shí)間視表面情況而定,一般控制在25秒左右較好。

    化學(xué)鍍鎳:

    硫酸鎳(NiSo4?6H2O)20g/L次磷酸二氫鈉(NaH2PO2?H2O)23g/L

    氟化氫銨(NH4HF2)10g/L檸檬酸(C6H8O7?H2O)5g/L

    40%氫氟酸(HF)5ml/L硫脲[SC(NH2)2]2mg/L

    PH值(用氨水調(diào)整)6±0.5

    溫度80-85℃

    時(shí)間90min

    鍍液中HF及NH4HF2的F-離子在一定程度上能抑制SO42-對鎂合金基體的腐蝕。檸檬酸和氟化氫銨是作為絡(luò)合劑,硫脲起光亮劑和穩(wěn)定劑作用。PH值的變化對鍍層質(zhì)量影響較大,PH值高沉積速度快,但易導(dǎo)致產(chǎn)生針孔,鍍液不穩(wěn)定;PH值過低,沉積速度慢,鍍液會(huì)腐蝕基體,要嚴(yán)格控制好溶液PH值和溫度在工藝范圍內(nèi)。

    例二

    工藝流程:堿性除油→酸性浸蝕→活化→直接化學(xué)鍍鎳→鈍化→熱處理(各工序間水洗)

    除油處理:氫氧化鈉(NaOH)60g/L磷酸三鈉(Na3PO4)10g/L

    溫度60℃時(shí)間10min

    浸蝕處理:85%磷酸(H3PO4)200ml/L氟化鉀(KF)2g/L

    &

    nbsp;溫度室溫時(shí)間20-30S

    活化處理:40%氟化氫(HF)380ml/L

    溫度室溫時(shí)間5-10min

  

 

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